名称：GVC-1000磁控离子溅射仪
生产厂商：北京格威
型号：GVC-1000
仪器简介：
GVC-1000磁控离子溅射仪是一种用于扫描电子显微镜（SEM）样品制备的高性能镀膜设备，采用磁控溅射技术（Magnetron Sputtering）在样品表面沉积纳米级金属（如金、铂、碳等）或导电薄膜，主要解决非导电样品的荷电效应，提升SEM成像质量和EDS/EBSD分析准确性。
功能特点：
高精度镀膜：采用磁控溅射技术，镀膜均匀性优于传统热蒸发技术，避免颗粒污染；可精确控制膜厚（纳米级），适合高分辨率SEM成像或EDS分析。
多功能性：支持金、铂等材料，满足不同导电性和分辨率需求（如铂适用于更高倍率成像）；可选碳镀膜，用于TEM样品制备。
兼容性广：适用于绝缘体、生物样品、纳米材料等，解决电荷积累问题。
全自动流程：一键启动，预设程序存储（如生物样品常用参数）
技术参数：
镀膜材料：金（Au）、金钯合金（Au/Pd）；
镀膜厚度：1–20 nm（可调）；
溅射电流：0–100 mA（可调）；
样品台：可容纳直径≤100 mm的样品，兼容多种样品架；
应用范围：广泛应用于材料科学、半导体与电子器件，生物与生命科学、地质与矿物学、能源与环境科学等领域。
仪器安装地点：实验6号楼一楼105室
仪器管理人：
曾 雪，实验6号楼二楼201-1室，办公电话：0931-4956220，手机：15101201253
